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J-GLOBAL ID：201602206962101392   整理番号：16A0394370

収束電子ビームを用いた高強度レーザーのプロファイル測定

著者 (5件)： 五十嵐大裕 (早稲田大 理工学術院 総合研・理工研) ,  高橋孝 (早稲田大 理工学術院 総合研・理工研) ,  坂上和之 (早稲田大 高等研) ,  遠藤彰 (早稲田大 理工学術院 総合研・理工研) ,  鷲尾方一 (早稲田大 理工学術院 総合研・理工研)
資料名： 日本物理学会講演概要集(CD-ROM)  (日本物理学会春季大会講演概要集(CD-ROM))
巻： 71  号： 1  ページ： ROMBUNNO.19AAQ-8  発行年： 2016年03月22日 
JST資料番号： S0671C  ISSN： 2189-079X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *パルスレーザ ,  *輪郭 ,  *電子ビーム ,  *Compton散乱 ,  金属線 ,  逆Compton散乱
準シソーラス用語： *高強度レーザ ,  *プロファイル【輪郭】 ,  *レーザCompton散乱 ,  金属ワイヤ

分類 (2件)： レーザ一般  (BD04030T) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

タイトルに関連する用語 (4件)： 収束電子ビーム ,  高強度 ,  レーザー ,  プロファイル