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J-GLOBAL ID：201702267497270869   整理番号：17A0934620

フェニルボロン酸修飾デンドリマーを用いた細菌検出における修飾率の影響

著者 (5件)： 池野知 (上智大 理工) ,  堀内良介 (上智大 理工) ,  土戸優志 (上智大 理工) ,  橋本剛 (上智大 理工) ,  早下隆士 (上智大 理工)
資料名： ホスト-ゲスト・超分子化学シンポジウム講演要旨集  (ホスト-ゲスト・超分子化学シンポジウム予稿集)
巻： 15th  ページ： 63  発行年： 2017年06月03日 
JST資料番号： F1825A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *デンドリマ ,  *化学修飾 ,  細菌検査 ,  感染症 ,  プローブ ,  凝集 ,  グラム陰性菌 ,  グラム陽性菌 ,  最適条件 ,  選択性 ,  化学的性質 ,  縮合反応 ,  脱水反応 ,  陽子磁気共鳴 ,  化学合成 ,  比濁分析 ,  細菌検出 ,  化学選択性 ,  脱水縮合 ,  微生物
準シソーラス用語： 脱水縮合反応 ,  1H-NMR ,  濁度測定

分類 (2件)： 共重合  (CG04030D) ,  有機化合物の電気分析  (CC05034O)

物質索引 (2件)： フェニルボロン酸 ,  4-(ジヒドロキシボリル)安息香酸

タイトルに関連する用語 (4件)： フェニルボロン酸 ,  修飾 ,  デンドリマー ,  細菌検出