成膜後熱処理の最適化による原子層堆積Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>膜バイアス安定性の向上

堀川清貴; 平岩篤; 平岩篤; 大久保智; 蔭浦泰資; 川原田洋; 川原田洋; 川原田洋

文献

J-GLOBAL ID：201802210978669489 整理番号：18A0630565

成膜後熱処理の最適化による原子層堆積Al₂O₃膜バイアス安定性の向上

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資料名：
巻： 65th ページ： ROMBUNNO.17a-F206-11 発行年： 2018年03月05日
JST資料番号： Y0054B ISSN： 2758-4704 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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酸化物薄膜

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成膜後熱処理の最適化による原子層堆積Al2O3膜バイアス安定性の向上

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