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J-GLOBAL ID：201802274084713778   整理番号：18A0631379

電子線照射を用いたポリスチレン薄膜の光ナノパターニング

著者 (2件)： 香村惟夫 (早稲田大 大学院) ,  井村考平 (早稲田大 大学院)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 65th  ページ： ROMBUNNO.18a-A402-6  発行年： 2018年03月05日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリスチレン ,  *高分子薄膜 ,  電子照射 ,  *パターン形成 ,  ナノ構造 ,  リソグラフィー ,  有機材料 ,  陰極線ルミネセンス ,  二光子放出 ,  レーザ励起 ,  有機薄膜
準シソーラス用語： *ナノパターニング

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子線照射 ,  ポリスチレン ,  薄膜 ,  ナノパターニング