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J-GLOBAL ID:202202218007114050   整理番号:22A1007443

非線形スペクトル変化によるシリコン導波路の内部構造モデリング手法の感度の向上

Enhancement of measurement sensitivity in an internal structure modeling method for silicon waveguides using nonlinear spectral change
著者 (4件):
資料名:
巻: 121  号: 386(PN2021 52-86)  ページ: 60-64 (WEB ONLY)  発行年: 2022年02月22日 
JST資料番号: U2030A  ISSN: 2432-6380  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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シリコン導波路デバイスをはじめ微細加工技術を用いた光デバイスの製造評価には内部構造のモデリングが重要であり,伝搬軸に沿った構造の分布計測が必要となる.これまでに我々は,プローブ光パルスの誘引する非線形スペクトル変化を用いた非破壊な内部構造モデリング手法を提案し,シリコン導波路の構造モデリングに対する有効性を確認している.本手法を用いてシリコン導波路の内部構造モデリングを精度よく行う際には,導波路内での非線形スペクトル変化の十分な誘引が重要となる.本研究では,導波路内での非線形スペクトル変化が十分に得られない状況において,計測の感度を向上させる方法を提案し,その有効性について検討する.(著者抄録)
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分類 (2件):
分類
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導波管,同軸線路  ,  非線形光学 
引用文献 (22件):

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