文献

J-GLOBAL ID：202202252130767423   整理番号：22A0132182

縦型半導体スピン素子のための単結晶Co₂FeSi上Ge薄膜の高品質化

High quality Ge on epitaxial Co₂FeSi for semiconductor based vertical spin devices

著者 (8件)： 山田敦也 (大阪大 基礎工) ,  山田道洋 (JST-さきがけ) ,  山田道洋 (阪大 基礎工 CSRN) ,  山田晋也 (阪大 基礎工 CSRN) ,  山田晋也 (大阪大 基礎工) ,  澤野憲太郎 (都市大 総研) ,  浜屋宏平 (阪大 基礎工 CSRN) ,  浜屋宏平 (大阪大 基礎工)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 82nd  ページ： ROMBUNNO.10p-N202-17  発行年： 2021年08月26日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： ...【本文一部表示】

シソーラス用語： 界面 ,...

ログイン（無料）して見る     続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=22A0132182&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0055B") }}

分類 (2件)： 蛋白質・ペプチド一般  (EB03010N) ,  分析機器  (CC02020S)

タイトルに関連する用語 (6件)： 縦型 ,  スピン ,  単結晶 ,  Ge ,  薄膜 ,  高品質化