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J-GLOBAL ID:202202279905475397   整理番号:22A1649221

モノクロロおよびジクロロシランを用いた層状オクトシリケート層表面へのSi-H基の固定化

Immobilization of Si-H groups on the interlayer surface of layered octosilicate with monochloro- and dichloro-silanes
著者 (8件):
資料名:
巻: 102nd  ページ: ROMBUNNO.J401-3am-06 (WEB ONLY)  発行年: 2022年 
JST資料番号: U2384A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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層状ケイ酸塩の層表面シリル化により様々な官能基を修飾できる。ヒドロシリル基(SiH基)はSiOH基形成やSiC,SiOSi結合への転換が可能で,層間修飾に基づく機能発現が期待される。本研究では,クロロジメチルシランとジクロロメチルシランを用いて層状オクトシリケート層表面にSi-H基を固定した。シリル化剤の反応点の数の違いによる骨格構造や層間環境の変化を明らかにした。(著者抄録)
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分類 (4件):
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分子化合物  ,  有機けい素化合物  ,  固体の表面構造一般  ,  付加反応,脱離反応 
物質索引 (3件):
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