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J-GLOBAL ID：202302288119751430   整理番号：23A2521041

サブマイクロサイズの三次元Si{111}ファセットライン構造の表面制御

Surface control of three-dimensional Si{111} facet-line structures in sub μm size

著者 (9件)： 今山航 (奈良先端科学技術大学院大) ,  木元康成 (奈良先端科学技術大学院大) ,  MABARROH Ni’matil (奈良先端科学技術大学院大) ,  阪井雄也 (奈良先端科学技術大学院大) ,  東嵩晃 (奈良先端科学技術大学院大) ,  服部梓 (大阪大 産科研) ,  大坂藍 (大阪大 産科研) ,  田中秀和 (大阪大 産科研) ,  服部賢 (奈良先端科学技術大学院大)
資料名： 日本物理学会講演概要集(CD-ROM)  (日本物理学会春季大会講演概要集(CD-ROM))
巻： 78  号： 1  ページ： ROMBUNNO.22pPSJ-10  発行年： 2023年03月23日 
JST資料番号： S0671C  ISSN： 2189-079X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： Fin-FETなど立体デバイスの性能向上を目指して、形状エッジの直線性と立体表面の平坦性を両立した三次元半導体の作製が試みられている。我々は、走査電子顕微鏡(SEM)や低速電子回折(LEED)などの表面科学的手法を三次元立体形状試料へ展開す...【本文一部表示】

シソーラス用語： *ケイ素 ,  ファセット ,  *三次元 ,  集積回路 ,  低速電子回折 ,  走査型トンネル顕微鏡 ,  超高真空 ,  *熱処理条件 ,  構造 ,  *三次元集積回路
準シソーラス用語： 三次元構造

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (1件)： Si