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J-GLOBAL ID:202402242634768744   整理番号:24A0565531

導波光の変化を用いたシリコン細線導波路への光結合アライメント計測

Optical coupling alignment measurement into a silicon waveguide by analyzing spectral changes of probe pulse after propagating through the waveguide.
著者 (3件):
資料名:
巻: 123  号: 349(PN2023 47-68)  ページ: 88-91 (WEB ONLY)  発行年: 2024年01月15日 
JST資料番号: U2030A  ISSN: 2432-6380  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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シリコンフォトニクスは大容量で低消費電力な通信や大規模集積回路を実現できる技術として注目されている.シリコンフォトニクスの普及における大きな課題の一つとして,光集積回路と光ファイバー間の光結合における損失が大きいことがあげられ,その低減が求められている.光結合損失の低減に向け様々な研究が行われる中で,光結合の状態を計測する手法も開発されており,AFMを用いた手法が一般的に利用されている.しかし従来のAFMを用いた手法では2Dの光集積回路の光結合計測は可能であるが,近年,高性能化を目指して開発が進んでいる3D化された光集積回路における光結合の状態計測が困難である.我々はこれまでに3D光集積回路内でも計測可能な,データ同化による光路推定手法を提案し,シリコン細線導波路における実証を行っている.本研究では提案手法の光結合計測への適用可能性について検討する.(著者抄録)
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分類 (1件):
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光導波路,光ファイバ,繊維光学 
タイトルに関連する用語 (5件):
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