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J-GLOBAL ID：200902131603687484   整理番号：99A0029786

プラズマ損傷を受けたSiのフォトレフレクタンス分光法によるその場(in-situ)評価

In-situ Characterization of Plasma-Damaged Si by Photorefrectance Spectroscopy.

著者 (4件)： 藤本晶 (和歌山工高専) ,  和田秀夫 (大阪大 基礎工) ,  金島岳 (大阪大 基礎工) ,  奥山雅則 (大阪大 基礎工)
資料名： 和歌山工業高等専門学校研究紀要  (Memoirs of the Wakayama Technical College)
号： 33  ページ： 13-17  発行年： 1998年10月 
JST資料番号： S0941A  ISSN： 0287-5381  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 非接触・非破壊測定法であるフォトレフレクタンス(PR)分光法...

シソーラス用語： *レーザ分光法 ,...

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分類 (2件)： 分光法と分光計一般  (BD07041Q) ,  半導体の放射線による構造と物性の変化  (BK16123E)

タイトルに関連する用語 (6件)： プラズマ損傷 ,  Si ,  フォト ,  レフレクタンス ,  分光法 ,  評価