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J-GLOBAL ID：200902146583128952   整理番号：99A0974838

フォトレフレクタンス分光法によるSiの歪みの解析

著者 (6件)： 阿形真司 (大阪大 大学院) ,  江利口浩二 (松下電子工業) ,  藤本晶 (和歌山工高専) ,  金島岳 (大阪大 大学院) ,  山下馨 (大阪大 大学院) ,  奥山雅則 (大阪大 大学院)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 60th  号： 2  ページ： 650  発行年： 1999年09月01日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (6件)： フォト ,  レフレクタンス ,  分光法 ,  Si ,  歪み ,  解析