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J-GLOBAL ID：200902149401161355   整理番号：98A0027478

シリコンに注入したリンのシリコン/酸化膜界面でのパイルアップ現象

Phosphorus pile-up at the interface of silicon and oxide.

著者 (5件)： 柳沢泰伸 (日立 デバイス開セ) ,  佐藤久子 (日立 デバイス開セ) ,  秋森博子 (日立 デバイス開セ) ,  鎌田正 (日立 デバイス開セ) ,  小笠原誠 (日立 デバイス開セ)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 58th  号： 2  ページ： 786  発行年： 1997年10月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (7件)： シリコン ,  注入 ,  リン ,  酸化膜 ,  界面 ,  パイル ,  現象