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J-GLOBAL ID：200902149766522926   整理番号：96A0904281

ポーラスシリコンにおけるフェムト秒レーザー誘起プリプラズマの形成過程

Formation process of femtosecond laser produced pre-plasma on porous silicon.

著者 (4件)： 西川正 (NTT 基礎研) ,  中野秀俊 (NTT 基礎研) ,  芹川正 (NTT 境界領域研) ,  上杉直 (NTT 基礎研)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 57th  号： 3  ページ： 888  発行年： 1996年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (4件)： ポーラスシリコン ,  フェムト秒レーザー ,  誘起 ,  形成過程