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J-GLOBAL ID:200902154554655121   整理番号:96A0443707

サブ1/4ミクロン領域のソース/ドレイン不均一ドープチャネル(NUDC)MOSFETの信頼性

Reliability of Source-to-Drain Non-Uniformly Doped Channel (NUDC) MOSFETs for Sub-Quarter-Micron Region.
著者 (6件):
資料名:
巻: 35  号: 2B  ページ: 874-881  発行年: 1996年02月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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標記MOSFETにおけるホットキャリア劣化のシミュレーション...
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トランジスタ 
引用文献 (10件):
  • OGURA, S. Tech.Dig.Int.Electron Device Meet. 1982, 718
  • OKUMURA, Y. Tech.Dig.Int.Electron Device Meet. 1990, 391
  • CHATTERJEE, A. Tech.Dig.Int.Electron Device Meet. 1994, 87
  • HORI, A. Tech.Dig.Int.Electron Device Meet. 1992, 699
  • HORI, T. Tech.Dig.Int.Electron Device Meet. 1994, 75
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