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J-GLOBAL ID：200902229720214058   整理番号：07A0911746

レーザーCVD法によるY-Si-O系酸化物膜の合成

著者 (3件)： 遠藤淳 (東北大 金属材料研) ,  木村禎一 (東北大 金属材料研) ,  後藤孝 (東北大 金属材料研)
資料名： セラミックス基礎科学討論会講演要旨集  (Preprints of the Symposium on Basic Science of Ceramics)
巻： 45th  ページ： 552-553  発行年： 2007年01月22日 
JST資料番号： L1357A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化物 ,...

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分類 (2件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

物質索引 (2件)： ジピバロイルメタン ,  TEOS

タイトルに関連する用語 (4件)： レーザー ,  CVD法 ,  Si ,  酸化物膜