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J-GLOBAL ID：200902240666401436   整理番号：09A0022644

高飽和磁束密度軟磁性薄膜の開発とその波及的応用

Development of Electrochemical Technique to Prepare Soft Magnetic Films with High Saturation Magnetic Flux Density and Their Practical Applications

著者 (1件)： 逢坂哲彌 (早稲田大 先進理工)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 108  号： 313(MR2008 30-37)  ページ： 19-24  発行年： 2008年11月14日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 磁気記録分野では成膜法として限界と思われていた電気化学プロセスをナノ構造が制御された成膜法として再提示してきた。その中で開発したCoFeNi軟磁性の電気めっき膜は,混晶境界ラインの合金組成を狙うことで膜内の粒子は微細化され,高B_sと低い保磁力が両立することを見出した。本成果は主磁極が高比抵抗膜でなくてはならないという概念を塗り替え,高B_s材料を用いることで薄膜化を可能にし,高性能小型磁気ヘッドの実現を下支えした。引き続いて開発したB_s=2.4TのCoFe軟磁性膜も含め,電気化学的に形成した種々の軟磁性膜は磁気記録分野への適用に加えて,磁気が介在する電気・電子デバイスに搭載されるようになってきている。(著者抄録)

シソーラス用語： 磁束密度 ,  磁気飽和 ,  *磁性薄膜 ,  *磁気ヘッド ,  *軟磁性材料 ,  電気めっき
準シソーラス用語： *軟磁性体

分類 (1件)： 記憶装置  (JC04060F)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高飽和磁束密度 ,  軟磁性 ,  薄膜 ,  開発 ,  応用