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J-GLOBAL ID：200902244749540468   整理番号：08A0460924

XPD及びNEXAFSによるMo(112)-p(2x1)-P表面構造とチオフェン分子の吸着構造の研究

著者 (9件)： 幸田竜 (東大 大学院) ,  近藤寛 (東大 大学院) ,  有賀寛子 (東大 大学院) ,  谷池俊明 (東大 大学院) ,  谷池俊明 (北陸先端科学技術大学院大) ,  佐々木岳彦 (東大) ,  LAURIN Mathias (東大 大学院) ,  島田透 (物質・材料研究機構) ,  岩澤康裕 (東大 大学院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 88th  号： 1  ページ： 47  発行年： 2008年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 我々は,P修飾Mo(112)-p(2x1)がチオフェンの脱硫反応に高い活性をもつことを既に見出した。本研究では,高活性の要因となる表面構造をX線光電子回折(XPD)を用いて決定し,さらに,軟X線吸収端微細構造法(NEXAFS)によりチオフェン分子の吸着構造を明らかにした。炭素K吸収端のNEXAFSにより,チオフェンはS-C結合が表面に近くにあるような吸着構造をとることが分り,これが選択的脱硫反応活性の要因ではないかと考えられる。(著者抄録)

シソーラス用語： *X線光電子スペクトル ,  XANES ,  *モリブデン ,  結晶面 ,  *表面構造 ,  *吸着 ,  *リン ,  *触媒活性 ,  表面再構成 ,  分子配向 ,  *硫黄複素環化合物 ,  脱硫反応
準シソーラス用語： *NEXAFS

分類 (1件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

物質索引 (1件)： チオフェン

タイトルに関連する用語 (8件)： XPD ,  NEXAFS ,  Mo ,  表面構造 ,  チオフェン ,  分子 ,  吸着構造 ,  研究