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J-GLOBAL ID：200902259178889910   整理番号：04A0903887

光機能付与を目指したシリカガラスへのイオンマイクロビーム照射~AFM測定による高密度化を伴う微細構造変化の評価~

Modification of Silica Glass for Optical Devices by Ion Microbeam Irradiation-Evaluation of the Microscopic Structural Change Including Densification by AFM-

著者 (8件)： 中村知晴 (早稲田大 理工) ,  柳崇 (早稲田大 理工) ,  大木義路 (早稲田大 理工) ,  深川一成 (芝浦工大 工) ,  西川宏之 (芝浦工大 工) ,  及川将一 (原研 高崎研) ,  佐藤隆博 (原研 高崎研) ,  荒川和夫 (原研 高崎研)
資料名： 電気電子絶縁材料システムシンポジウム予稿集  (電気電子絶縁材料システムシンポジウム)
巻： 35th  ページ： 77-80  発行年： 2004年11月17日 
JST資料番号： G0398B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *石英ガラス ,...

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分類 (1件)： ガラス・セラミック被覆一般  (YC02010D)

タイトルに関連する用語 (7件)： 光機能 ,  シリカガラス ,  イオン ,  マイクロビーム照射 ,  高密度化 ,  微細構造 ,  評価