特許
J-GLOBAL ID：200903020301989691
磁気抵抗効果ヘッドの製造方法
発明者：
,
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-272516
公開番号（公開出願番号）：特開2001-028108
出願日： 1999年09月27日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：
【要約】【課題】 強磁性トンネル接合素子を用いた記録再生ヘッドの、作成途中におけるバリア層の破壊を防止し、ヘッド製造上の歩留まりが向上させること。【解決手段】 フリー層106/バリア層105/固定層104を基本構成とするトンネル接合膜を用いた磁気抵抗効果ヘッドの製造工程において、フリー層106と固定層104との抵抗値を予め下げておき、後段階において磁気抵抗効果ヘッドとして使用するときの抵抗値に上げる。フリー層106と固定層104の抵抗値が低い間は、電流が流れやすくなるためにチャージアップが抑制されるので、バリア層105の絶縁破壊を防ぐことができる。
請求項（抜粋）：
フリー層、バリア層及び固定層からなるトンネル接合膜を有する磁気抵抗効果ヘッドを製造する方法であって、前記フリー層と前記固定層との間の抵抗値を前記磁気抵抗効果ヘッドとして使用する場合の抵抗値よりも小さく形成する第一の工程と、この第一の工程によって形成された前記抵抗値を前記磁気抵抗効果ヘッドとして使用する場合の抵抗値に増大させる第二の工程と、を備えた磁気抵抗効果ヘッドの製造方法。
Fターム (8件)：
5D034BA03
, 5D034BA08
, 5D034BA15
, 5D034BA17
, 5D034BA21
, 5D034BB09
, 5D034CA07
, 5D034DA07
