特許
J-GLOBAL ID：200903021434689123
磁気抵抗効果ヘッドおよび磁気抵抗効果ヘッドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-310854
公開番号（公開出願番号）：特開2000-137905
出願日： 1998年10月30日
公開日（公表日）： 2000年05月16日
要約：
【要約】【課題】 研磨加工によって磁気抵抗効果素子(MR素子)の寸法を追い込む際に、研磨面に表われる加工モニタ用パターンの形状または寸法に基づいて磁気抵抗効果素子(MR素子)の寸法を管理できるようする。【解決手段】 研磨量に対応して研磨面に現われる寸法または形状が変化するよう形成された加工モニタ用パターン8を磁気抵抗効果素子6に対して所定の位置関係で形成する。加工モニタ用パターン8は、磁気抵抗効果素子6よりもイオンミリングレートが大きな膜を磁気抵抗効果素子6の膜厚よりも厚く形成しておき、磁気抵抗効果素子6をパターン化する工程と同じ工程でイオンミリング処理によってパターン形成する。加工モニタ用パターン8の形状は、各歯長が異なる櫛形の他に、三角形,逆三角形等としてもよい。
請求項（抜粋）：
研磨量に対応して研磨面に現われる寸法または形状が変化するよう形成された加工モニタ用パターンを磁気抵抗効果素子に対して所定の位置関係で形成したことを特徴とする磁気抵抗効果ヘッド。
Fターム (4件)：
5D034BA02
, 5D034BA30
, 5D034DA01
, 5D034DA07
