特許

J-GLOBAL ID：200903039094320452

加熱機器

発明者： 井上 修一 ,  川口 隆文 ,  大西 久男 ,  西村 寛之 ,  佐々木 博一
出願人/特許権者： 大阪瓦斯株式会社
代理人 (2件)： 北村 修一郎 ,  東 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-118203
公開番号（公開出願番号）：特開2007-292339
出願日： 2006年04月21日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：

【課題】光触媒による防汚性及び超親水性を十分に発揮させることができる加熱機器の提供。【解決手段】本体の上部の少なくとも一部を覆う光透過性板状体4と、その板状体4の表面側に配置される被加熱物を加熱する加熱手段とが設けられ、板状体4の表面には光触媒層19が形成され、光触媒層19に対してその裏面側から光を照射するように光を反射する反射体20が設けられている。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

本体の上部の少なくとも一部を覆う光透過性板状体と、その板状体の表面側に配置される被加熱物を加熱する加熱手段とが設けられ、前記板状体の表面には光触媒層が形成されている加熱機器であって、 前記光触媒層に対してその裏面側から光を照射するように光を反射する反射体が設けられている加熱機器。

IPC (5件)：

F24C 15/10 ,  B01D 53/86 ,  B01J 35/02 ,  F24C 7/04 ,  H05B 6/12

FI (5件)：

F24C15/10 B ,  B01D53/36 J ,  B01J35/02 J ,  F24C7/04 B ,  H05B6/12 305

Fターム (31件)：

3K051AB02 ,  3K051AD31 ,  3K051CD44 ,  3K051CD46 ,  3L087AA03 ,  3L087AC21 ,  3L087DA09 ,  4D048AB01 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA41X ,  4D048BB03 ,  4D048CC38 ,  4D048CC43 ,  4D048EA01 ,  4G169AA03 ,  4G169BA04A ,  4G169BA48A ,  4G169CA07 ,  4G169CA10 ,  4G169DA06 ,  4G169EA07 ,  4G169EA11 ,  4G169HA02 ,  4G169HA03 ,  4G169HA10 ,  4G169HB02 ,  4G169HC02 ,  4G169HE06 ,  4G169HF05 ,  4G169HF09

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 防汚部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-320845   出願人：大阪瓦斯株式会社