特許
J-GLOBAL ID：200903043311895849

新規15O標識モノサッカリドおよびその製造方法

発明者：
西村 伸太郎

西村 伸太郎 について

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村上 佳裕

村上 佳裕 について

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中村 栄一

中村 栄一 について

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依光 英樹

依光 英樹 について


出願人/特許権者：
アステラス製薬株式会社

アステラス製薬株式会社 について

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中村 栄一

中村 栄一 について


代理人 (4件)： 森田 拓 ,  矢野 恵美子 ,  鈴木 ▲頼▼子 ,  濱井 康丞
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-536905
公開番号（公開出願番号）：特表2007-536207
出願日： 2005年03月28日
公開日（公表日）： 2007年12月13日
要約：
本発明は、陽電子放出断層撮像法(PET)に有用な新規15O標識モノサッカリドおよびその製造方法に関する。1つの局面において、本発明は、そのモノサッカリド分子のヒドロキシメチル基にて15Oで標識されている、15O標識モノサッカリドを提供する。別の局面において、本発明は、15Oモノサッカリドを製造するための方法を提供し、この方法は、そのモノサッカリド分子中のヒドロキシメチル基のヒドロキシル基がハロゲンで置換されているモノサッカリドを、有機スズ化合物および還元剤の存在下で15O酸素と反応させる工程を包含し、ここで、該反応は、ラジカル開始剤の非存在下または該ハロゲン化モノサッカリドベースで0.3当量以下のラジカル開始剤の存在下で行い、そのモノサッカリド分子中のヒドロキシメチル基が15Oで標識されている15O標識モノサッカリドを提供する。
請求項（抜粋）：
15O標識モノサッカリドであって、該モノサッカリド分子中のヒドロキシメチル基が15Oで標識されている、15O標識モノサッカリド。
IPC (4件)：
C07H 3/08 ,  A61K 51/00 ,  C07H 3/02 ,  B01J 31/12
FI (4件)：
C07H3/08 ,  A61K49/02 Z ,  C07H3/02 ,  B01J31/12 X
Fターム (9件)：
4C057AA03 ,  4C057BB02 ,  4C085HH03 ,  4C085KA29 ,  4C085KB38 ,  4C085LL07 ,  4C085LL13 ,  4H039CA60 ,  4H039CD20
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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