特許
J-GLOBAL ID：200903052388981771
有機EL素子及び有機EL素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-120841
公開番号（公開出願番号）：特開2003-317946
出願日： 2002年04月23日
公開日（公表日）： 2003年11月07日
要約：
【要約】【課題】 高品質の有機EL素子を簡易に製造し、製造コストを抑え、有機EL素子の大型化が可能な有機EL素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】 対向する電極間に少なくとも発光層を含む有機層を有する有機EL素子において、前記有機層の少なくとも1層は、ガラス転移温度が80〜250°Cであり昇華精製を行った有機化合物を用いてウェットプロセスで形成した層であることを特徴とする有機EL素子。
請求項（抜粋）：
対向する電極間に少なくとも発光層を含む有機層を有する有機EL素子において、前記有機層の少なくとも1層は、ガラス転移温度が80〜250°Cであり昇華精製を行った有機化合物を用いてウェットプロセスで形成した層であることを特徴とする有機EL素子。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05B 33/10
, H05B 33/14 B
3K007AB04
, 3K007AB17
, 3K007DB03
, 3K007FA01
