特許

J-GLOBAL ID：200903061691339828

3次元モデルのフィッティング装置、方法及びプログラム

発明者： 金井 理 ,  岸浪 建史 ,  遠藤 維 ,  伊達 宏昭
出願人/特許権者： 国立大学法人 北海道大学
代理人 (3件)： 三好 秀和 ,  高橋 俊一 ,  勝 治人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-211950
公開番号（公開出願番号）：特開2006-277712
出願日： 2005年07月21日
公開日（公表日）： 2006年10月12日
要約：

【課題】 3次元モデルのスキャニングから得た特徴稜線部を含む複雑な形状の高密度測定点群に対して、高精度かつ頑健、高速に適切なLoop細分割曲面の初期制御メッシュ(ICM)を生成する。【解決手段】 本発明は、3次元物理モデルのスキャニングデータを入力し、高密度測定点群を生成し、この高密度測定点群に対してMarching cubes法を適用してボリュームベース・メッシュを生成し、さらにこれにShrink-wrapping法を適用して高密度メッシュの生成し、この高密度メッシュに対して特徴境界の抽出処理を行い、続いてこの特徴境界を用いて、高密度メッシュの簡略化による特徴境界を保存した初期制御メッシュシードを生成し、Quasi-interpolationによりこの初期制御メッシュシードの幾何改良を実行してLoop細分割曲面初期制御メッシュを生成する技術である。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

3次元物理モデルのスキャニングデータを入力し、高密度測定点群を生成する高密度測定部と、 前記高密度測定部の生成した高密度測定点群に対して高密度メッシュを生成する高密度メッシュ構築部と、 前記高密度メッシュ構築部の生成した高密度メッシュに対して特徴境界の抽出処理を行う特徴境界抽出部と、 前記特徴境界抽出部の抽出した特徴境界を用いて、前記高密度メッシュの簡略化による特徴境界を保存した初期制御メッシュシードを生成する初期制御メッシュシード生成部と、 前記初期制御メッシュシードの幾何改良を実行してLoop細分割曲面初期制御メッシュを生成して出力する初期制御メッシュ幾何改良部とを備えた3次元モデルのフィッティング装置。

IPC (1件)：

G06F 17/50

FI (2件)：

G06F17/50 622C ,  G06F17/50 624A

Fターム (2件)：

5B046EA08 ,  5B046FA16

引用文献：

審査官引用 (5件)

• 特徴稜線への高精度フィッティングが可能な細分割曲面リバースエンジニアリング
• 特徴稜線への高精度フィッティングが可能な細分割曲面リバースエンジニアリング
• 複雑形状に対するLoop細分割曲面リバースエンジニアリング
• メッシュモデルの特徴稜線抽出に関する研究
• 複雑形状高密度測定点群に対する細分割曲面リバースエンジニアリング手法