特許

J-GLOBAL ID：200903099535478327

メタンガス濃度測定方法及びガス濃度測定装置

発明者： 中丸 哲也 ,  中村 隆一 ,  大西 久男
出願人/特許権者： 大阪瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 北村 修 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-244699
公開番号（公開出願番号）：特開平10-090207
出願日： 1996年09月17日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：

【要約】【課題】 雑ガスの存在下であっても正確にメタンガス濃度を測定することのできる技術を提供すること。【解決手段】 ガス検知素子1に被検知ガスを接触させて、そのガス検知素子1の抵抗値の変化に基づいてガス濃度を検出自在に構成し、被検知ガスの接触によるガス検知素子1の抵抗値変化、メタンガス濃度換算で1000ppm以上に相当するか否かを判別する判別機構7aが、メタンガス濃度換算で1000ppm以上に相当すると判別したときに、被検知ガスを1000ppm以下のメタンガス濃度相当の抵抗値変化が得られるように空気希釈してガス検知素子に接触させるガス希釈装置2を設け、希釈された被検知ガスの接触に基づくガス検知素子1の抵抗値変化から、希釈された被検知ガス中のメタンガスを検知し、希釈前のメタンガス濃度に換算する演算装置7bを設けた。

請求項（抜粋）：

ガス検知素子に被検知ガスを接触させて、そのガス検知素子の抵抗値の変化に基づいてガス濃度を検出自在に構成したガス濃度測定装置を用いて、メタンガスを検知するメタンガス濃度測定方法であって、被検知ガスの接触による前記ガス検知素子の抵抗値変化が、メタンガス濃度換算で、1000ppm以上に相当する場合に、前記被検知ガスを1000ppm以下に相当するメタンガス濃度に相当する抵抗値変化が得られるように空気希釈して前記ガス検知素子に接触させるとともに、希釈された被検知ガスの接触に基づく前記ガス検知素子の抵抗値変化から、希釈された被検知ガス中のメタンガスを検知するとともに、希釈前のメタンガス濃度に換算するメタンガス濃度測定方法。

IPC (3件)：

G01N 27/04 ,  G01M 3/00 ,  G01N 27/12

FI (3件)：

G01N 27/04 H ,  G01M 3/00 D ,  G01N 27/12 A