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J-GLOBAL ID：201002242609132961   整理番号：10A1383969

静電塗布法を利用した太陽電池用有機材料の平坦化技術

Realization of Smooth Organic Thin Film by Electrospray Deposition Technique

著者 (14件)： 浅野俊 (埼玉大) ,  浅野俊 (理研) ,  高木健次 (埼玉大) ,  高木健次 (理研) ,  福田武司 (埼玉大) ,  福田武司 (理研) ,  JU Jungmyoung (理研) ,  本多善太郎 (埼玉大) ,  鎌田憲彦 (埼玉大) ,  田島右副 (埼玉大) ,  田島右副 (理研) ,  青山哲也 (埼玉大) ,  青山哲也 (理研) ,  山形豊 (理研)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 110  号： 243(OME2010 46-54)  ページ： 11-14  発行年： 2010年10月15日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ウェットプロセスでバルクヘテロジャンクション型有機太陽電池を形成する為には,p型とn型の両材料を溶解する溶媒を選択する必要があり,積層化を行うのは困難である。この問題に対して,ウェットプロセスで積層化が容易な静電塗布法を用いて,バルクヘテロジャンクション層を塗布する研究を行った。本報告ではp型(P3HT)とn型材料(PCBM)の混合溶液を静電塗布し,薄膜中の混合比率と表面構造を評価した。その結果,静電塗布法で成膜した薄膜中の混合比率は塗布前の溶液と同程度である事が明らかとなった。また,蒸気圧の低い溶媒と誘電率の高い溶媒を用いて静電塗布を行う事で,成膜した薄膜表面の平坦化を実現した。(著者抄録)

シソーラス用語： *静電塗装 ,  *太陽電池 ,  *有機材料 ,  *プレーナ技術 ,  湿式法 ,  *高分子薄膜 ,  *平坦性 ,  ヘテロ接合 ,  表面構造 ,  ポリヘキシルチオフェン ,  フラーレン ,  スピンコーティング ,  可視吸収スペクトル ,  紫外スペクトル ,  脂肪族ケトン
準シソーラス用語： P3HT【重合体】 ,  PCBM

分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

物質索引 (1件)： アセトン

引用文献 (8件)：

• 吉田隆. 太陽エネルギー有効利用最前線. 2008
• BRABEC, C. Organic Photovoltaics. 2009
• RIETVELD, I. B. J. Colloid Interface Sci. 2009, 339, 481-488
• LOZANO, P. J. Colloid Interface Sci. 2004, 276, 392-399
• UEMATSU, I. J. Colloid Interface Sci. 2004, 269, 336-340

タイトルに関連する用語 (4件)： 静電塗布 ,  太陽電池 ,  有機材料 ,  平坦化