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J-GLOBAL ID：201002294885906482   整理番号：10A0610139

ウエットプロセスを用いた古くて新しい磁性膜の形成 高飽和磁束密度を有する軟磁性めっき膜

著者 (2件)： 逢坂哲彌 (早稲田大 理工学術院) ,  横島時彦 (早稲田大 理工学術院)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 61  号： 6  ページ： 402-408  発行年： 2010年06月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ハードディスク用の磁気ヘッドに用いる高飽和磁束密度を示す軟磁性めっき膜について説明した。主な合金系であるCo-Ni-Fe系における材料設計について説明した。めっき皮膜の組成の安定性のために重要なフレームめっき法およびパドルめっき法について述べた。Co-Ni-Fe合金の電気めっきに関してめっき液組成,添加剤,金属組織などについて解説した。Co-Ni-Fe-B合金の無電解めっき法およびめっき皮膜の磁気的性質について提示した。

シソーラス用語： 無電解めっき ,  *軟磁性材料 ,  飽和磁化 ,  相境界 ,  *コバルト合金 ,  鉄含有合金 ,  ニッケル含有合金 ,  状態図 ,  *合金めっき ,  *めっき液 ,  *金属組織 ,  めっき皮膜 ,  *電気めっき ,  *磁性薄膜 ,  *磁気ヘッド ,  磁気ディスク ,  ホウ素含有合金 ,  カルボアミド ,  スルタム ,  芳香族縮合化合物
準シソーラス用語： モルホトロピック相境界 ,  薄膜磁気ヘッド

分類 (3件)： 電子・磁気・光学記録  (NC06020F) ,  電気めっき  (WC08023B) ,  磁性材料  (NA04040H)

物質索引 (1件)： サッカリン

引用文献 (39件)：

• 1) M. Takahashi, H. Shoji, M. Abe, H. Komaba, and T. Wakiyama ; J. Magn. Soc. Jpn., 14, 283 (1990).
• 2) N. Ishiwata, C. Wakabayashi, and H. Urai ; J. Appl. Phys., 69, 5616 (1991).
• 3) N. Hasegawa, M. Satio, A. Kojima, A. Makino, Y. Misaki, and T. Watanabe ; J. Magn. Soc. Jpn., 14, 319 (1990).
• 4) K. Shintaku, K. Yamakawa, and K. Ouchi ; J. Appl. Phys., 93, 6474 (2003).
• 5) R. E. Jones Jr. ; IBM Disk Storage Tech., 3 (1990).

タイトルに関連する用語 (5件)： プロセス ,  磁性膜 ,  高飽和磁束密度 ,  軟磁性 ,  めっき膜