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J-GLOBAL ID：201002296739664399   整理番号：10A1037100

イオンスパッタリングによるMg合金上Ni-Sn化合物皮膜作製

著者 (2件)： 山口北斗 (鈴鹿工高専) ,  小林達正 (鈴鹿工高専)
資料名： 日本高専学会年会講演会講演論文集
巻： 15th  ページ： 213-214  発行年： 2009年 
JST資料番号： L6875A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *イオンビームスパッタリング ,  *マグネシウム合金 ,  *スズ化合物 ,  *ニッケル化合物 ,  *皮膜 ,  *走査電子顕微鏡 ,  エネルギー分散蛍光X線分析 ,  腐食試験 ,  *腐食 ,  *耐食性
準シソーラス用語： EDX分析 ,  錫被膜

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (6件)： イオンスパッタリング ,  Mg合金 ,  Ni ,  Sn ,  皮膜 ,  作製