特許

J-GLOBAL ID：201003024314500957

B-アリールボラジンの製造方法

発明者： 宮浦 憲夫 ,  山本 靖典
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒 ,  国立大学法人北海道大学
代理人 (1件)： 八田国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-137319
公開番号（公開出願番号）：特開2010-280637
出願日： 2009年06月08日
公開日（公表日）： 2010年12月16日
要約：

【課題】半導体用層間絶縁膜、バリアメタル層などの用途に有用なB-アリールボラジンの工業上有利な製造方法を提供する。【解決手段】化学式1で表されるボラジン化合物と、ハロゲン化アリールとを、パラジウム-トリアルキルホスフィン錯体などの触媒存在下で反応させて、化学式1におけるR2が水素原子の位置にアリール基を導入するB-アリールボラジンの製造方法。(式中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子または有機基であり、少なくとも1つのR2が水素原子である。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記化学式1:

IPC (1件)：

C07F 5/05

FI (1件)：

C07F5/05 B

Fターム (11件)：

4H039CA41 ,  4H039CA91 ,  4H039CD10 ,  4H039CD20 ,  4H048AA02 ,  4H048BA25 ,  4H048BA48 ,  4H048BA92 ,  4H048VA32 ,  4H048VA77 ,  4H048VB10