特許
J-GLOBAL ID：201003025588319732
有機EL素子及び有機EL素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-182853
公開番号（公開出願番号）：特開2010-268003
出願日： 2010年08月18日
公開日（公表日）： 2010年11月25日
要約：
【課題】高品質の有機EL素子を簡易に製造し、製造コストを抑え、有機EL素子の大型化が可能な有機EL素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】対向する電極間に少なくとも発光層を含む有機層を有する有機EL素子において、前記有機層の少なくとも1層は昇華精製を行ったガラス転移温度が80〜250°Cのイリジウム錯体の少なくとも1種を用いてウェットプロセスで形成した層であることを特徴とする有機EL素子。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
対向する電極間に少なくとも発光層を含む有機層を有する有機EL素子において、
前記有機層の少なくとも1層は昇華精製を行ったガラス転移温度が80〜250°Cのイリジウム錯体の少なくとも1種を用いてウェットプロセスで形成した層であることを特徴とする有機EL素子。
IPC (3件)：
H01L 51/50
, H05B 33/10
, C09K 11/06
H05B33/14 B
, H05B33/10
, C09K11/06 660
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107BB02
, 3K107BB04
, 3K107CC04
, 3K107CC09
, 3K107CC33
, 3K107CC42
, 3K107CC45
, 3K107DD53
, 3K107DD64
, 3K107DD67
, 3K107DD68
, 3K107DD69
, 3K107FF05
, 3K107FF13
, 3K107FF20
, 3K107GG06
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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