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J-GLOBAL ID：201102202830909194   整理番号：11A0558177

絶縁体表面における高速イオン・分子イオンの斜入射散乱

著者 (1件)： 中嶋薫 (京大 大学院工学研究科)
資料名： 原子衝突研究協会年会講演概要集  (原子衝突研究協会研究会概要集)
巻： 35th  ページ： 37-40  発行年： 2010年08月09日 
JST資料番号： L4450A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 絶縁材料 ,  *すれすれ入射 ,  鏡面反射 ,  *二次電子放出 ,  *二次イオン放出 ,  塩化カリウム ,  水素化物 ,  ヘリウム化合物 ,  1-10MeV ,  クラスタイオン ,  絶縁体
準シソーラス用語： 高速イオン ,  分子イオン ,  フラグメントイオン

分類 (2件)： イオンとの相互作用  (BK16070Z) ,  Auger電子放出,二次電子放出  (BM09040O)

タイトルに関連する用語 (6件)： 絶縁 ,  体表面 ,  高速イオン ,  分子イオン ,  斜入射 ,  散乱