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J-GLOBAL ID：201102214168523114   整理番号：11A0906341

Ambient Pressure XPSを用いた窒素ドープ酸化チタン光触媒の生成過程についての研究

著者 (9件)： 紋谷祐爾 ,  吉田真明 ,  小宇佐友香 ,  原田大雅 ,  豊島遼 ,  阿部仁 ,  雨宮健太 ,  間瀬一彦 ,  近藤寛
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 91st  号： 2  ページ： 435  発行年： 2011年03月11日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 0.2 Torrのアンモニア雰囲気下でTiO₂(110)基板を600°Cに加熱することで,可視光応答の光触媒である窒素ドープ酸化チタンを生成し,その反応の過程をAmbient Pressure XPS(準大気圧X線光電子分光)を用いて追跡した。その結果,600°Cにおいて,時間の経過とともにTiO₂への窒素ドーピングが進み,価電子帯上端が伝導帯に向かって伸びていく様子が観測された。そして,最終的には価電子帯上端に0.8 eV程度のシフトが見られた。(著者抄録)

シソーラス用語： *酸化チタン ,  *光触媒 ,  ドーピング ,  窒素 ,  X線光電子分光法 ,  電子構造 ,  価電子バンド

分類 (2件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (5件)： XPS ,  窒素ドープ ,  酸化チタン光触媒 ,  過程 ,  研究