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J-GLOBAL ID：201102254419607381   整理番号：11A0259897

パルス・レーザー蒸着によって作成された高kゲート絶縁体に対するZrO2およびPrOx薄膜の特徴描写

Characterization of ZrO2 and PrOx thin films for high-k gate insulator prepared by pulsed laser deposition

著者 (5件)： KANASHIMA T ,  SOHGAWA M ,  KANDA H ,  IKEDA K ,  OKUYAMA M
資料名： JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY
巻： 42  ページ： S1357-S1361  発行年： 2003年 
JST資料番号： O4216A  ISSN： 0374-4884  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： パルス ,  レーザー蒸着 ,  ゲート絶縁体 ,  ZrO2 ,  薄膜