特許
J-GLOBAL ID:201103012076635848

気液二相流でのマイクロチップ内濃縮方法とそのためのマイクロチップデバイス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-574302
特許番号:特許第4424993号
出願日: 2003年02月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】基板に流路を形成したマイクロチップにおいて、流路内に気液二相流による界面を形成して液相の濃縮を行うことを特徴とする気液二相流でのマイクロチップ内濃縮方法。
IPC (3件):
B01D 1/00 ( 200 6.01) ,  B81B 1/00 ( 200 6.01) ,  B01J 19/00 ( 200 6.01)
FI (3件):
B01D 1/00 Z ,  B81B 1/00 ,  B01J 19/00 321
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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