特許
J-GLOBAL ID：201103013207464757
プラズマ加工装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
弁護士法人 衞藤法律特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-004774
公開番号（公開出願番号）：特開2011-146458
出願日： 2010年01月13日
公開日（公表日）： 2011年07月28日
要約：
【課題】微細かつ均一なエッチング加工を高速度で実施することができるプラズマ加工装置を提供する。【解決手段】円柱状上または角柱状の放電電極1と、この放電電極1に対向して配置された複数の対向放電電極2と、凹部3にて対向放電電極2と接するように、対向放電電極2の放電電極側の面2aに凹状の固体誘電体4と、固体誘電体側面4aに沿って配置されたエッチングガス吹出口5とを、チャンバー10内に密封状態で収納して大略構成し、エッチングガス吹出口5を、プラズマ生成領域である固定誘電体側面4aに沿って配置する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
放電電極と、該放電電極に対向して配置された複数の対向放電電極と、凹部にて対向放電電極と接するように、対向放電電極側の面に配置された凹状の固体誘電体とで構成されたプラズマ加工装置であって、ガス供給管のガス吹出口と排気口が各固体誘電体間に配置されていることを特徴とするプラズマ加工装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/302 101E
, H05H1/24
5F004AA01
, 5F004AA16
, 5F004BA06
, 5F004BB11
, 5F004BB28
, 5F004DA01
, 5F004DA23
, 5F004DB07
, 5F004EA38
