特許
J-GLOBAL ID:201103018309830687

ラジカル重合における立体規則性の制御方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-216144
公開番号(公開出願番号):特開2000-044607
特許番号:特許第3773362号
出願日: 1998年07月30日
公開日(公表日): 2000年02月15日
請求項(抜粋):
【請求項1】次式 (式中、R1 およびR2 は、各々、その一部が塩素原子で置換されていてもよいフッ素化炭化水素基を示し、R3 は炭化水素基、フッ素化炭化水素基、フッ素原子、塩素原子、または水素原子を示す) で表わされ、かつ、pKaが4以上10未満であるフッ素含有分岐アルコール溶媒中において、アクリル系モノマーをラジカル重合することを特徴とする、重合体の立体規則性の制御方法。
IPC (2件):
C08F 2/06 ( 200 6.01) ,  C08F 20/02 ( 200 6.01)
FI (2件):
C08F 2/06 ,  C08F 20/02
引用特許:
出願人引用 (3件)

前のページに戻る