特許
J-GLOBAL ID:201103019768482671

磁気抵抗効果素子、その製造方法、及びそれを用いた磁気記録装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 詔男 (外3名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-160728
公開番号(公開出願番号):特開2001-052316
特許番号:特許第3446720号
出願日: 2000年05月30日
公開日(公表日): 2001年02月23日
請求項(抜粋):
【請求項1】 フリー層とこのフリー層上に形成されたバリア層とこのバリア層上に形成された固定層、もしくは、固定層とこの固定層上に形成されたバリア層とこのバリア層上に形成されたフリー層、のいずれかからなる磁気抵抗効果膜を含み、前記磁気抵抗効果膜のうちの少なくとも前記バリア層よりも上の層がパターン化されており、このパターン化されたパターンの端部表面に、このパターン化された層のうちの少なくとも一つを構成する金属材料の酸化物もしくは窒化物が形成されていることを特徴とする磁気抵抗効果素子。
IPC (3件):
G11B 5/39 ,  H01L 43/08 ,  H01L 43/12
FI (3件):
G11B 5/39 ,  H01L 43/08 Z ,  H01L 43/12

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