特許

J-GLOBAL ID：201103024695933886

産業用機械

発明者： 古谷 正裕 ,  常磐井 守泰 ,  高橋 毅 ,  小林 博和 ,  田中 伸幸 ,  三上 己紀 ,  黒田 昌宏
出願人/特許権者： 財団法人電力中央研究所
代理人 (2件)： 栗原 浩之 ,  村中 克年
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-054005
公開番号（公開出願番号）：特開2006-230957
特許番号：特許第4368315号
出願日： 2005年02月28日
公開日（公表日）： 2006年09月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】Ti-C結合の状態で炭素がドープされた酸化チタン又はチタン合金酸化物からなる多機能層を表面の少なくとも一部に設けた多機能材が構造物として用いられていることを特徴とする産業用機械。

IPC (4件)：

D06F 35/00 ( 200 6.01) ,  B01J 27/22 ( 200 6.01) ,  B01J 35/02 ( 200 6.01) ,  D06F 31/00 ( 200 6.01)

FI (5件)：

D06F 35/00 Z ,  B01J 27/22 M ,  B01J 35/02 A ,  B01J 35/02 J ,  D06F 31/00

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 複合材の清浄化方法及びセルフクリーニング性複合材機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-030591   出願人：東陶機器株式会社
• 高活性光触媒炭素ドープ二酸化チタンとその作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-335975   出願人：日本原子力研究所

審査官引用 (2件)

• 複合材の清浄化方法及びセルフクリーニング性複合材機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-030591   出願人：東陶機器株式会社
• 高活性光触媒炭素ドープ二酸化チタンとその作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-335975   出願人：日本原子力研究所