特許
J-GLOBAL ID:201103027686177520

マイクロチャンネル内表面の部分化学修飾方法とマイクロチャンネル構造体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-333789
公開番号(公開出願番号):特開2005-169386
特許番号:特許第4523386号
出願日: 2004年11月17日
公開日(公表日): 2005年06月30日
請求項(抜粋):
【請求項1】 少なくとも二つのチャンネルが任意の領域において並行接触して接触部分を形成しており、この接触部分では各チャンネルを流れる流体の界面が形成されるマイクロチャンネル構造において、一つのチャンネルの内表面のみを化学修飾する方法であって、化学修飾される第一チャンネル内に修飾試薬含有溶液を導入し、第一チャンネル内の修飾試薬含有溶液の液圧と、第一チャンネルと並行接触して接触部分を形成する化学修飾されない第二チャンネル内の気圧が平衡を保つ状態で静置し、次いで第二チャンネル内を加圧とすることにより過剰の修飾試薬含有溶液を第一チャンネル内から排出することを特徴とするマイクロチャンネル内表面の部分化学修飾方法。
IPC (5件):
B01J 19/00 ( 200 6.01) ,  B01D 11/04 ( 200 6.01) ,  B01D 19/00 ( 200 6.01) ,  B81B 1/00 ( 200 6.01) ,  F25D 9/00 ( 200 6.01)
FI (5件):
B01J 19/00 321 ,  B01D 11/04 C ,  B01D 19/00 F ,  B81B 1/00 ,  F25D 9/00 D
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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