特許
J-GLOBAL ID：201103084603670895
放射線触媒装置並びに水素製造方法及びこれを利用した水素製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
村瀬 一美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-082896
公開番号（公開出願番号）：特開2003-275602
特許番号：特許第4066320号
出願日： 2002年03月25日
公開日（公表日）： 2003年09月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 陰極と、放射線を浴びることにより触媒として作用する放射線触媒から成ると共に複数の受光面を重ねて有する陽極と、前記陽極及び前記陰極が浸される溶媒と、前記陽極を透過可能な放射線を該陽極に浴びせて複数の前記受光面を次々に透過させ前記陽極を触媒として作用させる放射線源と、前記陽極および前記陰極に電圧を印加して前記陽極での触媒作用を補助する直流電源とを備えることを特徴とする放射線触媒装置。
IPC (5件)：
C01B 3/04 ( 200 6.01)
, B01J 35/02 ( 200 6.01)
, B01J 19/12 ( 200 6.01)
, C25B 1/04 ( 200 6.01)
, C25B 11/06 ( 200 6.01)
C01B 3/04 A
, B01J 35/02 J
, B01J 19/12 C
, C25B 1/04
, C25B 11/06 Z
