特許
J-GLOBAL ID:201103088024411115

液相析出法によるマイクロパターニング方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 梶 良之 ,  須原 誠
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-123184
公開番号(公開出願番号):特開2004-323946
特許番号:特許第4310415号
出願日: 2003年04月28日
公開日(公表日): 2004年11月18日
請求項(抜粋):
【請求項1】基板表面に直接、触媒材料を任意の形状にパターニングし、前記パターニングされた基板を任意のセラミックス又はセラミックス前駆体を析出することができるセラミックス析出反応液に浸漬し、前記基板表面に、セラミックス析出反応液として、酸性フッ化アンモニウム水溶液に酸化物若しくは水酸化物を溶解した水溶液を用い、このセラミックス析出反応液にフッ化物イオンイーターを添加することで、前記セラミックス析出反応液内の平衡を酸化物若しくは水酸化物の析出側へシフトさせ、このセラミックス析出反応液中に前記基板を浸漬することによって、前記基板上へ酸化物若しくは水酸化物を析出させる液相析出法(LPD:LiquidPhase Deposition)によってセラミックス又はセラミックス前駆体を析出、積層させることによって、前記パターニングされた部分に選択的にセラミックス又はセラミックス前駆体を形成することができる液相析出法によるマイクロパターニング方法。
IPC (3件):
C23C 18/12 ( 200 6.01) ,  C23C 26/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/316 ( 200 6.01)
FI (3件):
C23C 18/12 ,  C23C 26/00 C ,  H01L 21/316 Z
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (12件)
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