特許
J-GLOBAL ID:201103092953739459

Pd系水素分離膜を製造する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外3名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-354733
公開番号(公開出願番号):特開2002-153740
特許番号:特許第3396470号
出願日: 2000年11月21日
公開日(公表日): 2002年05月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】 無電解メッキ法によりPd系水素分離膜を製造する方法であって、耐熱性多孔質支持体を、有機系脱脂剤で洗浄処理をした後、前記有機系脱脂剤をアルコールで置換して真空中で乾燥処理を行う工程、真空乾燥した前記支持体を、SnCl2溶液とPdCl2溶液との2液に交互に浸漬して活性化処理した後、純水によって支持体を十分に洗浄する工程、活性化浸漬処理を行った前記支持体を、ヒドラジン水溶液中で浸漬活性化処理を施す工程、及び前記浸漬処理を行った前記支持体を、無電解メッキ液に浸漬する工程、を含んでなることを特徴とするPd系水素分離膜を製造する方法。
IPC (4件):
B01D 71/02 500 ,  C23C 18/28 ,  C23C 18/31 ,  C23C 18/44
FI (4件):
B01D 71/02 500 ,  C23C 18/28 A ,  C23C 18/31 A ,  C23C 18/44
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特開平3-288534
  • 特開昭62-273029

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