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J-GLOBAL ID：201202207270511989   整理番号：12A1730972

超流動ヘリウム中でのレーザーアブレーションによるZnO微小球の作製-構造と光学特性

著者 (4件)： 岡本慎也 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  市川聡 (大阪大 ナノサイエンスデザイン教育研究セ) ,  蓑輪陽介 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  芦田昌明 (大阪大 大学院基礎工学研究科)
資料名： ナノ学会会報  (Bulletin of the Society of Nano Science and Technology)
巻： 11  号： 1  ページ： 11-14  発行年： 2012年10月31日 
JST資料番号： L5734A  ISSN： 1347-8028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 発光・非線形光学材料として期待できる直接遷移型のワイドギャップ半導体であり,六方晶系で一次元成長しやすいZnOから,超流動ヘリウム中でのレーザーアブレーションにより,粒径数nm~3μm程度の真球度の高い微小球を作製することに成功した。透過型電子顕微鏡(TEM)による構造解析から,作成したZnO微小球は単結晶であることを明らかにした。これらの特性を活かして,マイクロ微小球の三次元光閉じ込めによるレーザー発振を実現した。このZn微小球によるレーザー発振の閾値は100W/cm²以下と見積もられ,現在報告されているZnOマイクロワイヤーによるレーザー発振の閾値と比べ,3桁以上低い値であることが分かった。

シソーラス用語： 超流動 ,  ヘリウム ,  *レーザアブレーション ,  *酸化亜鉛 ,  化合物半導体 ,  *非線形光学材料 ,  六方晶系 ,  *ミクロスフェア ,  透過型電子顕微鏡 ,  単結晶 ,  閉込め ,  *レーザ発振 ,  閾値
準シソーラス用語： ワイドギャップ半導体 ,  微小球 ,  光閉込め

分類 (3件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  非線形光学  (BD05000T) ,  固体レーザ  (BD04080W)

引用文献 (24件)：

• 1) Vahala, K. J.: Nature. 424,839 (2003).
• 2) Tamboli, A. C. et al.: Nature photon. 1,61 (2007).
• 3) Tamboli, A. C. et al.: Appl. Phys. Lett. 94,251116 (2009).
• 4) Haberer, E. D. et al.: Appl. Phys. Lett. 85,5179 (2004).
• 5) Kuwata-Gonokami, M., Takeda,K., Yasuda, H. & Ema, K.: Jpn. J. Appl. Phys. 31,99 (1992).

タイトルに関連する用語 (6件)： 超流動ヘリウム ,  レーザーアブレーション ,  ZnO ,  微小球 ,  作製 ,  光学特性