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J-GLOBAL ID：201202221354181049   整理番号：12A0642700

ケイ素保護基を用いた非対称テトラチアフルバレンの効率的合成

著者 (4件)： 上野遼太 (京大 大学院) ,  藤野大士 (京大 大学院) ,  依光英樹 (京大 大学院) ,  大須賀篤弘 (京大 大学院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 92nd  号： 4  ページ： 1264  発行年： 2012年03月09日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 嵩高いケイ素保護基を導入したテトラチアフルバレンをパラジウム触媒存在下ハロゲン化アリールと反応させ,片側のみを位置選択的に直接アリール化した。これを脱保護したのち再度アリール化を行い非対称なテトラチアフルバレンの合成に成功した。(著者抄録)

シソーラス用語： 官能基保護 ,  オレフィン化合物 ,  *硫黄複素環化合物 ,  パラジウム触媒 ,  *アリール化 ,  脱保護基 ,  触媒反応 ,  位置特異性反応 ,  シラン誘導体
準シソーラス用語： テトラチアフルバレン誘導体

分類 (1件)： ジオキソール,オキサチオール,ジチオール  (CF07079K)

物質索引 (1件)： 4-(トリイソプロピルシリル)-Δ^2,2′-ビ[1,3-ジチオール]

タイトルに関連する用語 (4件)： ケイ素 ,  保護基 ,  非対称 ,  テトラチアフルバレン