文献

J-GLOBAL ID：201202233265924680   整理番号：12A0267106

磁性薄膜研究の最前線 I-合金薄膜形成技術-湿式法を用いた磁性薄膜の形成

Development of Wet Processes for Magnetic Recording Devices

著者 (3件)： 逢坂哲彌 (早稲田大 理工学術院) ,  横島時彦 (早稲田大 理工学術院) ,  杉山敦史 (早稲田大 理工学術院)
資料名： まぐね  (Magnetics Japan)
巻： 7  号： 1  ページ： 12-19  発行年： 2012年02月01日 
JST資料番号： L5842A  ISSN： 1880-7208  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： めっき法による磁気記録材料の形成及び,軟磁性材料の形成に関するトピックスを紹介した。電気めっきを用いた磁気記録材料の形成については,HDD面内記録用磁化膜の研究が1950年代初頭から始められ,1981年にめっき磁性膜を記録層にしたNTTのPATTYの実用化までの経緯を紹介した。垂直記録方式のHDD用磁気ディスク全般の成膜には,現在,スパッタリング法が用いられている。垂直記録磁化膜(BPM)の加工には共にリソグラフィー技術とインプリント法が多用されている。実用化の課題はディスク全面にわたるシングルナノレベル加工に対するコスト削減と生産性向上である。2000年にIBMのSunらが提案して以来,化学合成法による粒径数ナノメートルの磁性粒子を用いた1粒子1記録ビット型BPM作製の試みが注目されており,筆者らもこの方法を発展させたFePt粒子表面に露出した金属種と選択的に結合する有機分子種を用いる方法を検討している。オクタデシルトリメトキシシランを用いて作製し,20nm程度のパターンを摩擦力顕微鏡で確認した。めっき法による軟磁性材料の形成では,1979年にIBMのRomankiwらにより,Fe-Ni合金めっき(いわゆるパーマロイめっき)が実用化され,HDDの薄膜磁気ヘッド磁性材料から本格的に使われ始めた。

シソーラス用語： *磁性薄膜 ,  *金属薄膜 ,  薄膜成長 ,  *湿式法 ,  *軟磁性材料 ,  *磁気記録材料 ,  めっき ,  駆動機構 ,  磁気ディスク
準シソーラス用語： HDD ,  *合金薄膜 ,  薄膜形成

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  磁性材料  (NA04040H)

引用文献 (29件)：

• 逢坂哲彌. 表面. 1985, 23, 138
• 後藤文男. 金属表面技術. 1982, 33, 414
• OSAKA, T. IEEE Trans. Magn. 1987, MAG-23, 2356
• SUGANUMA, Y. IEEE Trans. Magn. 1982, MAG-18, 1215
• 後藤文男. 磁気ディスク硬磁性めっき. 湿式法を利用したエレクトロニクス高機能薄膜作製法. 1992, 23, 37

タイトルに関連する用語 (5件)： 磁性薄膜 ,  研究 ,  合金 ,  薄膜形成技術 ,  湿式法