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J-GLOBAL ID：201202233353634501   整理番号：12A0621738

金基板上単分子膜のXPS測定時における試料損傷

著者 (6件)： 齊藤純輝 (宇都宮大 大学院工学研究科) ,  倉山文男 (宇都宮大 オプティクス教育研究セ) ,  古澤毅 (宇都宮大 大学院工学研究科) ,  佐藤正秀 (宇都宮大 大学院工学研究科) ,  鈴木昇 (宇都宮大 大学院工学研究科) ,  鈴木昇 (宇都宮大 オプティクス教育研究セ)
資料名： Journal of Surface Analysis  (Journal of Surface Analysis)
巻： 18  号： 3  ページ： A.60  発行年： 2012年03月 
JST資料番号： L3852A  ISSN： 1341-1756  CODEN： JSANFX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： XPS測定における試料損傷に対する損傷因子データベース化に関する研究を行った。測定対象としてAu基板上に被覆したメルカプトアルコール/シランカップリング剤複合膜を用いた。その結果,基板Au表面との距離が短いほど損傷が進みやすい事を示す結果が得られ,基板からの光電子が修飾膜の損傷に大きく影響する事を明らかにした。

シソーラス用語： *X線光電子分光法 ,  金 ,  基板 ,  損傷 ,  シランカップリング剤 ,  メルカプト基 ,  光電子 ,  表面分析
準シソーラス用語： XPS ,  単分子膜

分類 (1件)： 電子分光スペクトル  (BM09060K)

引用文献 (1件)：

• 1) M. Sato, H. Watanabe, T. Furusawa and N. Suzuki, J. Surf. Analysis, 12 (2), 183-187 (2005).

タイトルに関連する用語 (5件)： 金基板 ,  単分子膜 ,  XPS ,  試料 ,  損傷