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J-GLOBAL ID：201202265319421930   整理番号：12A0233322

シンクロトロン放射を用いた,太陽電池用多結晶シリコン基板における歪み分布の測定

MEASUREMENT OF STRAIN DISTRIBUTION IN MULTI-CRYSTALLINE SILICON SUBSTRATES FOR SOLAR CELLS USING SYNCHROTRON RADIATION

著者 (3件)： ARAFUNE Koji (Univ. Hyogo, Himeji, JPN) ,  MIKI Shouhei (Univ. Hyogo, Himeji, JPN) ,  MONDEN Masao (Univ. Hyogo, Himeji, JPN)
資料名： Conference Record of the IEEE Photovoltaic Specialists Conference  (Conference Record of the IEEE Photovoltaic Specialists Conference)
巻： 35th Vol.3  ページ： 1666-1668  発行年： 2010年 
JST資料番号： E0756A  ISSN： 0160-8371  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シンクロトロン放射白色X線ベースLaueパターンマッピング(LPM)法を開発し,太陽電池用多結晶Si基板内の歪み分布を測定した。試料として,単結晶Siと多結晶Siを用い,各測定点でX線イメージングセンサにより透明Laueパターンを得,X線トポグラフィー(XRT)画像と比較した。LPMの歪測定結果とXRT結果は一致した。

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,  *ポリシリコン ,  *歪分布 ,  歪測定 ,  太陽電池 ,  シンクロトロン放射 ,  X線トポグラフィー
準シソーラス用語： Laue法 ,  X線イメージング ,  シリコン基板 ,  画像計測 ,  単結晶シリコン ,  白色X線

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： シンクロトロン放射 ,  太陽電池 ,  多結晶シリコン ,  歪み分布