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J-GLOBAL ID：201202277880990879   整理番号：12A0227913

かさ高い保護基を用いたセルロースの位置特異的誘導体化と光学分割能評価

著者 (4件)： 岡田和士 (鈴鹿工高専) ,  山本智代 (鈴鹿工高専) ,  岡本佳男 (名古屋大) ,  岡本佳男 (中国哈爾浜ハルビン工程大)
資料名： 日本高専学会年会講演会講演論文集
巻： 17th  ページ： 311-312  発行年： 2011年08月27日 
JST資料番号： L6875A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *セルロース ,  *誘導体化 ,  位置特異性反応 ,  官能基保護 ,  *カイラル固定相 ,  *光学分割 ,  基 ,  有機ケイ素化合物 ,  カルバミド酸エステル
準シソーラス用語： 保護基

分類 (2件)： 高分子と低分子との反応  (CG03020L) ,  多糖類  (CF10054P)

タイトルに関連する用語 (7件)： かさ ,  保護基 ,  セルロース ,  誘導体化 ,  光学分割 ,  能 ,  評価