特許
J-GLOBAL ID:201203070505493329
均一直径ベシクル生成装置及び生成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
牛木 護
, 吉田 正義
, 今枝 弘充
, 梅村 裕明
, 小合 宗一
, 高橋 知之
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2009064427
公開番号(公開出願番号):WO2010-021320
出願日: 2009年08月18日
公開日(公表日): 2010年02月25日
要約:
1μmないし100μmの範囲のサイズで均一な単一層の二分子膜ベシクルを大量に生成する方法であって、封入効率の高い方法を開発すること。 本発明は二分子膜ベシクルの生成装置を提供する。本発明の二分子膜ベシクルの生成装置は、主流路と、該主流路に開口する複数の微小憩室と、該微小憩室に連絡する房室と、該房室に設けられた脈動防止手段とを含む構造体を複数含む。本発明は二分子膜ベシクルの生成方法を提供する。本発明のベシクルの生成方法は、本発明の構造体と、第1及び第2の水性溶液と、相分離流体とを用意するステップと、前記相分離流体が相分離流体層を形成し、該相分離流体層は前記微小憩室の側壁面に懸架されるステップと、前記主流路内の第2の水性溶液の液流が前記相分離流体層を剪断することによって、前記相分離流体層と、該相分離流体層に包囲された第1の水性溶液とが括れてベシクルとして切断されるステップとを含む。
請求項(抜粋):
主流路と、該主流路に開口する複数の微小憩室と、該微小憩室に連絡する房室と、該房室に設けられた脈動防止手段とを含む構造体を複数含むことを特徴とする、両親媒性分子による二分子膜ベシクルの生成装置。
IPC (3件):
B01J 13/04
, A61K 9/127
, A61K 47/34
FI (3件):
B01J13/02 A
, A61K9/127
, A61K47/34
Fターム (14件):
4C076AA19
, 4C076EE17F
, 4G005AA06
, 4G005AB02
, 4G005AB14
, 4G005BA20
, 4G005BB11
, 4G005CA02
, 4G005DB01Z
, 4G005DC01Z
, 4G005DE10Z
, 4G005EA03
, 4G005EA04
, 4G005EA06
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