特許
J-GLOBAL ID：201203072717068949

有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び該製造方法により製造された有機エレクトロルミネッセンス素子

発明者：
室田 和敏

室田 和敏 について

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岩崎 利彦

岩崎 利彦 について

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硯里 善幸

硯里 善幸 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタホールディングス株式会社

コニカミノルタホールディングス株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-236241
公開番号（公開出願番号）：特開2012-089398
出願日： 2010年10月21日
公開日（公表日）： 2012年05月10日
要約：
【課題】湿式法で安定に製造可能であり、高発光効率、長寿命である有機ELエレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法を提供する。【解決手段】基板上に、対となる電極と、発光層を含む少なくとも一層の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、少なくとも一層の有機層を湿式製膜により形成する工程と、湿式製膜後に乾燥する工程を有し、1)該湿式製膜に用いる有機溶媒の含水率が50ppm以下であり、2)該湿式製膜工程が含水率100ppm以下の常圧雰囲気中で行われ、3)かつ該湿式製膜工程のウェット膜厚と乾燥工程のドライ膜厚の関係が、下記式(1)を満たし、前記有機層における各層のドライ膜厚が、有機発光層において最大である、ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスの製造方法。 式(1) 0.01≦hd/hw≦0.04 ただし、hd:ドライ膜厚(nm)、hw:ウェット膜厚(nm)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基板上に、対となる電極と、該電極間に発光層を含む少なくとも一層の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、 少なくとも一層の有機層を湿式製膜により形成する工程と、湿式製膜後に乾燥する工程を有し、 1)該湿式製膜に用いる有機溶媒の含水率が50ppm以下であり、 2)該湿式製膜工程が含水率100ppm以下の常圧雰囲気中で行われ、 3)かつ該湿式製膜工程のウェット膜厚と乾燥工程のドライ膜厚の関係が、 下記式(1)を満たし、 前記有機層における各層のドライ膜厚が、有機発光層において最大である、 ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 式(1) 0.01≦hd/hw≦0.04 ただし、hd:ドライ膜厚(nm)、hw:ウェット膜厚(nm)
IPC (2件)：
H05B 33/10 ,  H01L 51/50
FI (3件)：
H05B33/10 ,  H05B33/22 B ,  H05B33/14 B
Fターム (26件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107BB02 ,  3K107BB03 ,  3K107BB04 ,  3K107BB06 ,  3K107BB07 ,  3K107CC04 ,  3K107CC22 ,  3K107CC27 ,  3K107CC33 ,  3K107CC42 ,  3K107CC45 ,  3K107DD53 ,  3K107DD67 ,  3K107DD68 ,  3K107DD69 ,  3K107DD70 ,  3K107DD76 ,  3K107DD78 ,  3K107DD87 ,  3K107FF14 ,  3K107FF15 ,  3K107FF17 ,  3K107GG06 ,  3K107GG28
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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